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湿法去胶机厂家浅谈涂胶显影设备

湿法去胶机厂家浅谈涂胶显影设备共分为四个方面:


(1)涂胶显影设备分类


涂胶和显影是光刻前后的重要办法 ,设备以差别工艺所用的光刻胶、要害尺寸等方面的差别来分类。


(2)涂胶显影设备市场空间和花样


2021年全球前道涂胶显影设备销售额为 20亿美元 ,预计到 2022 年有望凌驾 25 亿美元。


(3)涂胶显影设备的行业和技术特点


显影的精度即为光刻的精度 ,因此涂胶显影设备对要害制程的形成也十分重要。


涂胶显影设备涉及机械、化学、热处理等多方面技术。


除了前道的 EUV 光刻带来的高端增量以外 ,相对低端后道封测、LED 制造等用的涂胶显影设备也保存市场增量。


(4)涂胶显影设备海内现状


用于前道晶圆制造的涂胶显影设备尚处于新进阶段 ,产品有发往上;Α⒊そ 储、中心绍兴、上;等多个客户验证 ,有部分产品通过验证并获得订单。目前的主要产品为用于后道先进封装和 LED 制造等的涂胶显影设备 ,产品进入主流大客户。


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