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湿法去胶机所用原辅料

湿法去胶机所用原辅料一般包括有机氯杀菌剂、润湿剂、阴离子外貌活性剂、氯离子外貌活性剂、氧化剂等。


一、有机氯杀菌剂

有机氯杀菌剂是一种使用广泛,去除细菌效果良好的氯类杀菌剂。它具有杀灭细菌、抑制有害微生物生长的功效,可有效杀灭集聚性及空气悬浮性的病原微生物,而差池人体和动物造成影响,是生产历程中预防细菌污染的有效手段之一。有机氯杀菌剂也可以直接作用于细菌的质壁,破坏细菌的基本功效,从而抵达消除细菌的目的。


二、润湿剂

润湿剂是一种主要用于为未来的清洗操作增加润湿性质的物质。在坚持稳定的温度和质量的情况下,它可以迅速升至被清洁外貌的外貌,为清洗作业提供富足的润湿性能。润湿剂可以结合灰尘和其他污染物,有效地降低外貌的活性,以便清洗作业取得最佳效果。同时,它还能够有效地增加清洗历程中有用的活性物质的吸赞同浓度,从而使清洗作业越发有效。


三、技术实现

一种干湿法结合去胶工艺,其工艺办法为:s1、基板准备:选取尺寸4寸-12寸硅晶元的一种作为基板,基板外貌做抛光处理;s2、光刻胶涂覆:通过旋涂的方法将光敏胶均匀涂覆在基板外貌,并使用曝光显影的方法使需要镀膜的区域裸露出来;s3、镀膜:通过pvd或者cvd的方法在基板外貌沉积膜层,完成镀膜;s4、湿法去胶:接纳浸泡去胶液的方法对成膜后的基板进行开端去胶,开端去胶时间1-2小时;s5、干法刻蚀:将开端去胶后的基板放入干刻机通入高纯度的氧气以及氩气进行干法刻蚀快速去除剩余光敏胶的残留胶液,干法刻蚀时间3-10分钟,完全去除光敏胶,完成整个干湿法结合去胶工艺。

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