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紫外线UV清洗原理,优点及应用

  紫外线外貌清洗
 
  1紫外线外貌清洗原理
  紫外线外貌清洗是近年来新兴的清洗要领  。紫外线外貌清洗法差别于原有清洗法,没有废水,废气,废物爆发  。是高能环保型清洗杀菌要领  。广泛运用于LCD,PCB,点子,印刷,塑胶,玻璃,涂装等领域  。
  紫外线清洗是是利用有机化合物的光敏氧化作用抵达去除附着在质料外貌的有机物质  。经过光清洗后的质料外貌可以抵达原子级清洁度  。
  其主要原理为紫外线灯发出的185nm波长和254nm波长具有很高的能量,高于大大都有机物的结合能量  。由于大大都碳氢化合物对185nm波长的紫外线具有较强的吸收能力,并且可以在吸收185nm波长后剖析成离子,流离态原子,受激分子和中子等,这就是光敏作用  ?掌械难醴肿釉谖樟185nm波长的紫外光后,会爆发臭氧和氧气,臭氧对254nm波长具有很强的吸收性,臭氧有可以剖析为氧原子和氧气  。氧原子具有极强的氧化性,可以将碳氢化合键切断,生成水和二氧化碳等易挥发气体,从被照射物外貌飘逸出,彻底清除物体外貌的污染物  。这就是紫外线清洗的原理  。
  清洗法有干洗和湿洗两种  。干洗有UV臭氧清洗,等离子清洗,离子清洗等  。湿洗有水洗,碱清洗,酸清洗,液体喷射清洗等  。我们日常所熟悉的湿式清洗有可以清洗掉较大规模污染的优点  。可是也会有清洗不掉的污染  。同时由于清洗的溶剂会在被清洗物外貌残留,因此关于高精密世界来说也是个污染  。
  与此相反UV紫外线清洗虽然不可清洗掉大规模的污染,却可以清洗到各个角落的就是光洗净技术(以下简称UV臭氧清洗)  。在纳米技术世界里,我们虽然看不到有机性污染,可是有机污染在外貌形成膜(软接着层)如果在这层膜上印刷的话,就会泛起鲜度恶化以及针孔等障碍  。UV臭氧清洗可以去除的污染有有机化合物以及含有油脂的污染等  。
 
  2二次污染的注意---玻璃外貌的有机性污染膜厚度在单分子层以下时是很是清洁的外貌状态  。即即是在实验室或这是无菌室里的大气中也会有微量的挥发性有机化合物或者硫化合物,将洗净玻璃安排于这种情况下也会被这些蒸汽污染  。高度清洗事后的外貌接触角会在30分到1小时内恢复到20度  。因此我们认为超高清洁玻璃不易长时间生存  。
 
  3可以将粒子极限清洗的清洗工艺---UV臭氧清洗和湿式清洗的结合. UV臭氧清洗是使有机性污染膜清洗到单分子层以下的高清洗技术,如下图所示在完成清洗阶段使用UV臭氧清洗技术  。可是UV臭氧清洗关于粒子没有效果  。同时湿式清洗不可完全清除有机性污染,会保存几个分子层厚度的油膜  。被这些油墨所吸收的粒子在冲洗历程中很难被全部清洗掉  。UV臭氧清洗是完成阶段的清洗,在生产历程中我们发明了如下图所示UV臭氧清洗后使用例如温水冲洗的清洗工艺  。UV臭氧清洗如图所示油膜基本上都可以清除  。在此之后使用纯水冲洗可以将没有油膜;さ牧W雍苋菀椎某逑吹,获得没有粒子,没有有机污染物的高清洁面  。
  这种技术要领不但在液晶显示装置的现场使用,在原版曝光和分光板的制造工程中也被大宗使用  。
  4. SEN 紫外线UV光清洗的优点:SEN UV灯照度高,照射时间短,使用寿命长,光衰低(一般在使用7000小时的光衰在60%  。)
 
  紫外线UV光清洗技术的应用规模: 液晶显示器件、触摸屏、半导体硅芯片、集成电路、高精度印制电路板、光学器件、石英晶体、密封技术、带氧化膜的金属质料主要质料:ITO 玻璃、光学玻璃、铬板、掩膜板、抛光石英晶体、硅芯片和带有氧化膜的金属等进行精密清洗处理  ?梢匀コ酃福河谢晕酃浮⑷颂迤ぶ⒒逼酚椭⑹髦砑蛹良熬埘Q前贰⑹⑺上恪⑷蠡汀⑹S嗟墓饪探旱
  1.种种质料(ITO玻璃,光学玻璃,铬板,掩膜版,抛光石英晶体,硅)晶片和带有氧化膜的金属等进行精密清洗处理;
  2.清除石腊,松香,油脂,人体体油以及剩余的光刻胶/聚酰亚胺和环氧树脂
  3.高精度PCB焊接前的清洗和去除剩余的焊剂以及敷铜箔层压板的外貌清洁和氧化层生成;
  4.超高真空密封技术和热压焊接前的外貌清洁处理以及种种微型元件的清洗
  5  。在LCD、OLED, Touch Panel科研/生产中,在涂光刻胶、PI胶、定向膜、铬膜、色膜前经过光清洗,可以极大的提高基体外貌润湿性,增强基体外貌的粘协力;
  6  。印制电路板生产中,对铜底板,印刷底板进行光清洗和改质,在导线焊接前进行光清洗,可以提高熔焊的接触面积,大大增加连接强度  。特别是高精度印制电路板,当线距抵达亚微米级时,光清洗可轻易地去除在线距之间很小的微粒,可以大大提高印制电路板的质量  。
  7  。大规模集成电路的密度越来越高,晶格的微细化越来越密,要求外貌的洁净度越来越高,光清洗可以有效地实现外貌的原子清洁度,并且对芯片外貌不会造成损伤  。
  8  。在半导体生产中,硅晶片涂;つぁ⒙琳舴⒛で敖泄馇逑,可以提高粘协力,避免针孔、裂缝的爆发
  9  。在光盘的生产中,沉积种种膜前作光清洗准备,可以提高光盘的质量  。
  10  。磁头牢固面的粘合,磁头涂敷,以及提高金属丝的连接强度,光清洗后效果更好  。
  11  。石英晶体振荡器生产中,除去晶体检测后涂层上的墨迹,晶体在银蒸发沉积前,进行光清洗可以提高镀膜质量和产品性能  。
  12  。在IC卡外貌插装ROM前,经过光清洗可提高产品质量  。
  13  。彩色滤光片生产中,光清洗后能彻底洗净外貌的有机污染物  。
  14  。敷铜箔层压板生产中,经过光照改质,不但外貌洁净并且外貌形成十分均匀的;ぱ趸,产品质量显著提高
  15  。光学玻璃经过紫外光清洗后,镀膜质量更好  。
  16  。树脂透镜光照后,能增强与防反射板的粘贴性  。
 
  典范应用包括:
  ·外貌的原子级清洗,·聚合物粘接, ·去除有机分子,·释放捕获的无机分子
  ·微流控制作, ·微米/纳米构型,·紫外光固化, ·外貌化学改性
  ·外貌杀菌 ·外貌氧化 ·金属粘结准备
  ·光酸化水处理,增进酸化水处理 ·光重合反应
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